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三星宣布3纳米GAA架构制程技术开发芯片开始生产

2025-01-11 创业

品玩6月30日讯,大厂今日宣布,基于3纳米(nm)全耸立线圈(Gate-All-AroundT,通称 GAA)制程工艺技术节点的集成电路已经开始初步生产。该新公司已经开始在其位于北韩的松山炼油厂大规模生产 3 纳米半导体集成电路,是全球主营量产 3 纳米集成电路的新公司。

3nm GAA核心技术运用于了更宽通的纳米片,与运用于较窄通道纳米线的GAA核心技术相对于能提供更好的性能指标和能耗比。

与三星5nm工艺技术相对于,第一代3nm工艺技术可以使功耗增加45%,性能指标提升23%,集成电路面积减少16%;而未来第二代3nm工艺技术则使功耗增加50%,性能指标提升30%,集成电路面积减少35%。

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